特許
J-GLOBAL ID：200903047795275870
電解コンデンサ用アルミニウム箔およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横井 幸喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-113805
公開番号（公開出願番号）：特開2008-266746
出願日： 2007年04月24日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチングに際し、拡径をより効果的に行って使用電圧の高い電解コンデンサへの適用における粗面化率を向上させる。【解決手段】Si:10〜30ppm、Fe:10〜20ppm、Pb:0.3〜3ppm、Cu:10〜70ppm、Ni:10〜50ppmを含有し、残部99.9%以上のAlと不可避不純物からなり、Ni濃度分布が、表層より0.1μm深さの平均含有量が全体平均含有量の10倍以上、1〜5μm深さの平均含有量が全体平均含有量の0.5倍以下、20μm深さ以上で全体平均含有量の80%以上を維持する。前記組成のアルミニウム箔を、不活性ガス又は水素ガス若しくはこれらの混合ガス雰囲気中で、少なくとも300〜450°Cの過程で昇温速度30〜100°C/時間で昇温させ、保持温度500〜580°C、保持時間2〜24時間で最終焼鈍することで前記Ni濃度分布を得る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
質量比で、Si:10〜30ppm、Fe:10〜20ppm、Pb:0.3〜3ppm、Cu:10〜70ppm、Ni:10〜50ppmを含有し、残部が99.9%以上のAlと不可避不純物からなる組成を有し、Ni濃度分布において、表層より0.1μm深さまでの平均含有量が全体平均含有量(Ni:10〜50ppm)の10倍以上であり、1〜5μm深さでの平均含有量が前記全体平均含有量の0.5倍以下であり、且つ20μm深さ以上では前記全体平均含有量の80%以上を維持していることを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム箔。
IPC (5件)：
C22C 21/00
, C22F 1/04
, C22F 1/02
, H01G 9/042
, H01G 9/055
C22C21/00 H
, C22F1/04 K
, C22F1/02
, H01G9/04 331
, H01G9/04 346
