特許
J-GLOBAL ID：200903047796515653
ポリ[3]ロタキサン製造用モノマ-及びその製造方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-337377
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137881
出願日： 2001年11月02日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】新規なロタキサン化合物及びその製造方法の提供。このロタキサンは、ポリ[3]ロタキサンを製造することに用いることができる。【解決手段】下記一般式(I)【化1】 (I)(式中、Rは、脂肪族炭化水素、及び芳香族炭化水素から選ばれる炭化水素基を表し、Yは、置換基を表し、Qは、反応性の置換基を表し、Xは、任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。)で表されることを特徴とするロタキサン化合物及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)【化1】 (I)(式中、Rは、炭化水素基を表し、Yは、置換基を表し、Qは、反応性の置換基を表し、Xは、任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。)で表されることを特徴とするロタキサン化合物。
IPC (3件)：
C07D323/00
, C08F 24/00
, C08G 85/00
C07D323/00
, C08F 24/00
, C08G 85/00
4C022NA04
, 4J031CA06
, 4J100AQ01P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
