特許

J-GLOBAL ID：200903047826425913

基板洗浄方法および基板洗浄システム

発明者： 小柳 哲雄 ,  山口 弘 ,  上田 勉
出願人/特許権者： 株式会社スガイ
代理人 (1件)： 佐野 章吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-062670
公開番号（公開出願番号）：特開平6-252126
出願日： 1993年02月26日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 基板洗浄システムにおいて、限られた洗浄室空間を有効利用し、かつ洗浄工程を完全自動化して基板の工程履歴管理等も自動で確実に行う。【構成】 基板搬送処理装置10によりウェハWを洗浄処理している間に、このウェハWが取り出された空カセット3 ́を基板搬出部Cへ搬送待機させ、洗浄処理が完了したウェハWを、再びこの搬入時に用いたのと同じカセット3に収納して次工程へ搬出する。これにより、キャリアカセット3を効率良く活用して、その必要個数を少なくするとともに、空カセット3 ́の搬送処理を自動化・効率化してその保管スペースも不要とする。さらに、これらの洗浄工程を完全自動化することにより、ウェハWの工程履歴管理等も自動で確実に行う。

請求項（抜粋）：

前工程からキャリアカセットに収納されて搬入される基板を、基板搬送処理装置に移し替えてカセットレスで洗浄処理を行った後、再びキャリアカセットに戻して次工程へ搬出する方式であって、前工程からキャリアカセットに収納されて搬入される基板を、基板搬入部で基板搬送処理装置に移し替えて、洗浄槽列の一端側から複数の洗浄槽に順次自動で浸漬し、これと並行して、上記基板搬入部で上記基板が取り出された空のキャリアカセットを、上記洗浄槽列の他端側の基板搬出部へ搬送し、この基板搬出部において、自動洗浄処理が完了した上記基板を、上記基板搬送処理装置から搬入時と同一のキャリアカセットに再び移し替えて次工程へ搬出するようにしたことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-027025
  
• 特開昭63-294397
  
• 特開昭63-208223
  
• 特開平2-076227