特許

J-GLOBAL ID：200903047847607590

バッチ式マイクロ波プラズマ処理装置及び処理方法

発明者： 鈴木 伸昌
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-325124
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158846
出願日： 1996年12月05日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】【課題】 欠陥の少ないプラズマ処理を高いスループットで行うことが可能なバッチ式マイクロ波プラズマ処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】 処理室101と、該処理室内に複数の基体を配する基体支持手段103と、該処理室内にマイクロ波を供給する手段とを有するマイクロ波プラズマ処理装置であって、前記マイクロ波を供給する手段が、複数の開口部(スロット122)を備えた無終端環状導波管108であることを特徴とするバッチ式マイクロ波プラズマ処理装置;及びこの装置を用いたプラズマ処理方法。

請求項（抜粋）：

処理室と、該処理室内に複数の基体を配置する基体支持手段と、該処理室内にマイクロ波を供給する手段とを有するマイクロ波プラズマ処理装置であって、前記マイクロ波を供給する手段が、複数の開口部を備えた無終端環状導波管であることを特徴とするバッチ式マイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (6件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B ,  H01L 21/30 572 A