特許

J-GLOBAL ID：200903047864154168

密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置

発明者： 河場 邦夫 ,  福原 光孝
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (1件)： 藤井 紘一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-325836
公開番号（公開出願番号）：特開2002-126678
出願日： 2000年10月25日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
要約：

【要約】【課題】 付着したサブミクロン粒子まで洗浄除去でき、かつ短時間で乾燥させることができる密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置の提供にある。【解決手段】 洗浄槽と乾燥槽とを分離し、洗浄槽は、蓋を外した密閉型容器100を、その開口部を下にした状態で載置し昇降する受台23を有するとともに、洗浄液を噴射する高圧シャワー27,28を有し、かつ洗浄液中に前記容器を浸漬する際に前記容器の内部に残留するエアを排出するエア抜きパイプ25機構を備え、超音波振動による超音波洗浄が行える。乾燥槽は、前記洗浄工程を終了した密閉型容器を収納して熱風を送り込み熱風加熱させる熱風送風機34を有するとともに、内部を減圧する減圧機構35を有する乾燥槽30とを備える。

請求項（抜粋）：

超音波洗浄槽内に洗浄液を供給するとともに蓋を外した密閉型容器をその開口部を下に向けて前記洗浄液中に浸漬し、かつ前記容器の内部に残留するエアを排出して超音波洗浄を行う工程と、洗浄液を排出し或いはそのままで容器の内外部を高圧シャワーにて洗浄する工程とを有する洗浄工程と、前記洗浄工程を終了した密閉型容器を乾燥槽に搬送して熱風を送り込み熱風加熱する工程と、乾燥槽内を減圧して減圧乾燥する工程とを有する乾燥工程とを備えた密閉型容器の洗浄方法。

IPC (5件)：

B08B 9/28 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

B08B 9/28 ,  B08B 3/02 A ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 648 E ,  H01L 21/68 T

Fターム (25件)：

3B116AA21 ,  3B116AB08 ,  3B116AB42 ,  3B116BB03 ,  3B116BB22 ,  3B116BB33 ,  3B116BB85 ,  3B116BB90 ,  3B116CC03 ,  3B116CD11 ,  3B201AA21 ,  3B201AB08 ,  3B201AB42 ,  3B201BB04 ,  3B201BB22 ,  3B201BB33 ,  3B201BB85 ,  3B201BB90 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC12 ,  3B201CC15 ,  3B201CD11 ,  5F031DA08 ,  5F031PA24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭48-074379
  
• 被洗浄物の洗浄及び乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-239359   出願人：ジャパン・フィールド株式会社