特許
J-GLOBAL ID:200903047866231380
実装済みプリント基板の検査方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-279740
公開番号(公開出願番号):特開平7-134011
出願日: 1993年11月09日
公開日(公表日): 1995年05月23日
要約:
【要約】【目的】 微小ビーム光で実装済みプリント基板上を走査し、その反射光を複数のPSDで受光して基板の表面形状を検査する実装済みプリント基板の検査方法に関し、反射光の反射方向を求めることにより、形状検査を精度よく行う。【構成】 光源1より微小ビーム光を発生し、ポリゴンミラー3により、実装済みプリント基板6上を略垂直に走査する。照射位置からの反射光をPSD19、20、21、22で受光する。PSD19、20、21、22の輝度出力値から、反射光の輝度重心位置ベクトルを算出し、半田面の傾斜方向を求める。2重反射が生じている場合は、傾斜方向を補正して、半田の形状検査を行う。
請求項(抜粋):
実装済みプリント基板上を微小ビーム光により走査し、前記微小ビーム光の照射位置からの反射光を互いに異なる複数の光電変換素子で受光して、前記実装済みプリント基板の表面形状を取得する実装済みプリント基板検査装置において、前記複数の光電変換素子で受光した光量をもとに、前記反射光の輝度の重心位置を求めることにより、前記反射光の反射方向を検出することを特徴とする実装済みプリント基板の検査方法。
IPC (5件):
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G02B 26/10 102
, H05K 3/34 512
, H05K 13/08
引用特許:
前のページに戻る