特許

J-GLOBAL ID：200903047867485130

シリカアルミナ薄膜の製造方法

発明者： 諌山 宗敏 ,  坂田 勘治 ,  国武 豊喜
出願人/特許権者： 新技術事業団 ,  諌山 宗敏 ,  坂田 勘治
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246609
公開番号（公開出願番号）：特開平6-009283
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：

【要約】【目的】 両親媒性物質が作る多層二分子膜薄膜の微細構造を活用し、分子レベルで構造制御された表面積が極めて大きなシリカアルミナ薄膜を得る。【構成】 二分子膜成形能をもつ両親媒性物質の展開液を基板上に展開し、形成された液膜から水分を徐々に蒸発させることにより、多層二分子膜薄膜が得られる。この多層二分子膜薄膜にシリカアルミナ化合物含有溶液を浸透させると、シリカアルミナ化合物は多層二分子膜薄膜の微細構造を鋳型として成長する。そこで、浸透処理後の両親媒性物質を化学的処理や加熱処理等で除去すると、分子レベルで構造制御されたシリカアルミナ薄膜が得られる。【効果】 得られたシリカアルミナ薄膜は、特異な微細構造を活かして、物質分離膜,触媒単体を始めとする各種機能薄膜として使用される。

請求項（抜粋）：

二分子膜形成能を有する両親媒性物質の展開液を基板上に展開した後、前記基板上に形成された液膜から溶媒を除去することによって前記両親媒性物質の多層二分子膜薄膜を調製し、シリカアルミナ化合物を含有する溶液に前記多層二分子膜薄膜を接触させ、次いで前記多層二分子膜薄膜を抽出除去することを特徴とするシリカアルミナ薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

C04B 38/04 ,  C01B 33/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-238030
  
• 特開平2-102122
  
• 特開昭51-129894