特許

J-GLOBAL ID：200903047879323179

金属材料中の介在物分析装置

発明者： 高山 透
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-211156
公開番号（公開出願番号）：特開2000-046767
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】 金属材料中の介在物の分析を、精度高く、試料の汚染が少なく、高能率で自動化できる分析装置を提供する。【解決手段】 レーザ光源と、レーザ光を試料室内の試料表面に導光する入射導光路と、レーザ光を試料表面で走査する手段と、反射光を検出する検出器と、反射導光路と、反射率を演算する演算手段と、反射率のデータを保存する記憶手段と、反射率データから反射率マップを演算するマップ演算手段と、反射率マップおよび予め設定された分析仕様に基づき電子顕微鏡のステージを自動設定する手段を備えた金属材料中の介在物分析装置。

請求項（抜粋）：

レーザ光源と、レーザ光源からのレーザ光を電子顕微鏡の試料室内の試料表面に導光する入射導光路と、レーザ光を金属材料の試料表面で走査する手段と、試料表面からの反射光を検出する検出器と、前記反射光を検出器まで導光する反射導光路と、検出された反射光から反射率を演算する演算手段と、レーザ光の走査位置と反射率のデータの組を保存する反射率データ記憶手段と、記憶された反射率データから介在物の位置、形状および反射率からなる反射率マップを演算するマップ演算手段と、反射率マップを記憶する手段と、反射率マップおよび予め設定された分析仕様とに基づき電子顕微鏡のステージを介在物の位置に自動設定する手段と、電子顕微鏡を制御する手段とを備えたことを特徴とする金属材料中の介在物分析装置。

IPC (2件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502

FI (2件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 L

Fターム (23件)：

2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001CA03 ,  2G001CA07 ,  2G001DA02 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA05 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA11 ,  2G001JA13 ,  2G001KA01 ,  2G001KA05 ,  2G001LA02 ,  2G001LA11 ,  2G001NA06 ,  2G001NA17 ,  2G001PA11