特許

J-GLOBAL ID：200903047888058330

オゾンガスの貯蔵方法

発明者： 小池 国彦 ,  井上 吾一
出願人/特許権者： 岩谷産業株式会社
代理人 (1件)： 北谷 寿一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-004392
公開番号（公開出願番号）：特開平10-196890
出願日： 1997年01月14日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】 取り扱いが比較的安全で、オゾンの自己分解を抑制して長期にわたってオゾンガスを貯蔵することのできるオゾン貯蔵方法を提供する。【解決手段】 含有する不純物成分を重量比率でアルミニウム40ppm以下、チタン250ppm以下、鉄30ppm以下、カルシウム40ppm以下、マグネシウム10ppm以下、ナトリウム200ppm以下、ジルコニウム50ppm以下に調製した高純度シリカゲルをオゾン貯蔵容器内に充填し、高純度シリカゲルを充填してなるオゾン貯蔵容器を冷却しながらオゾン発生器で発生させたオゾンガスを供給して、オゾンガスを高純度シリカゲルに吸着保持させる。

請求項（抜粋）：

含有する不純物成分を重量比率でアルミニウム40ppm以下、チタン250ppm以下、鉄30ppm以下、カルシウム40ppm以下、マグネシウム10ppm以下、ナトリウム200ppm以下、ジルコニウム50ppm以下に調製した高純度シリカゲルをオゾン貯蔵容器内に充填し、この高純度シリカゲルを充填してなるオゾン貯蔵容器を冷却しながら、オゾン発生器で発生させたオゾンガスをオゾン貯蔵容器内に供給してオゾンガスを高純度シリカゲルに吸着保持させるオゾンガスの貯蔵方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-224102
  
• 特開平3-016638
  
• 特開平4-224102
  
• 特開平3-016638