特許
J-GLOBAL ID:200903047913664169

AlN基板用無電解Ni系メッキ液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井内 龍二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-298590
公開番号(公開出願番号):特開平7-150363
出願日: 1993年11月29日
公開日(公表日): 1995年06月13日
要約:
【要約】【構成】 Niイオン源として(含結晶水)硫酸ニッケル、(含結晶水)塩化ニッケル又は(含結晶水)酢酸ニッケル、錯化剤として(含結晶水)エチレンジアミン、第2錯化剤として乳酸、及び還元剤として(含結晶水)次亜りん酸ナトリウムを含んでいるAlN基板用無電解Ni系メッキ液。【効果】 低温で、AlN基板11を溶解腐食させることなく、AlN基板11上に形成された配線のみに選択的に、配線との密着性や被膜自身の硬度等の特性に優れたリン含有Niメッキ被膜10を迅速に形成することができる。
請求項(抜粋):
Niイオン源として(含結晶水)硫酸ニッケル、(含結晶水)塩化ニッケル又は(含結晶水)酢酸ニッケル、錯化剤として(含結晶水)エチレンジアミン、第2錯化剤として乳酸、及び還元剤として(含結晶水)次亜りん酸ナトリウムを含んでいることを特徴とするAlN基板用無電解Ni系メッキ液。
IPC (2件):
C23C 18/36 ,  H01L 23/12

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