特許
J-GLOBAL ID:200903047923178874

処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中本 菊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-083217
公開番号(公開出願番号):特開平5-251327
出願日: 1992年03月05日
公開日(公表日): 1993年09月28日
要約:
【要約】【目的】 簡単な構造でもって外カップ内面及び内カップ外面を良好に洗浄することができる洗浄手段を備えた処理装置を提供する。【構成】 外カップ21内にて被処理体Wの表面に処理液を回転塗布する処理装置において、外カップ21の上部開口部25近傍に開口縁に沿わせて多数の洗浄液吐出孔26を形成し、これら多数の洗浄液吐出孔26に流量制御手段39を介して洗浄液供給源29を接続する。洗浄液吐出孔26からの洗浄液の吐出速度を低速に設定することにより洗浄液を外カップ21の内面を伝って流下させて、また、吐出速度を高速に設定することにより洗浄液を内カップ20の外面に吹付けて、装置内を良好に洗浄する。
請求項(抜粋):
カップ内にて被処理体表面に処理液を回転塗布する処理装置において、上記カップの上部開口部近傍に開口縁に沿わせて多数の洗浄液吐出孔を形成し、上記洗浄液吐出孔に流量制御手段を介して洗浄液供給源を接続したことを特徴とする処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特公平4-030506
  • 特開昭57-197069

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