特許

J-GLOBAL ID：200903047927543429

表面修飾微細粒子およびその製造方法

発明者： 長谷川 和弘
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-264478
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073119
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】 良好な性能を有するII-IV族系化合物の表面修飾微細粒子を簡便に製造可能な新規な方法を提供する。【解決手段】 水溶性無機化合物を含有する液相中にII-VI族系化合物の微細粒子を分散させ、前記微細粒子の表面を前記水溶性無機化合物によって修飾する工程を含むことを特徴とする表面修飾微細粒子の製造方法である。また、水溶性無機化合物を含有する液相中でII-VI族系化合物の微細粒子を生成させるとともに、生成した前記微細粒子の表面を前記水溶性無機化合物によって修飾する工程であることを特徴とする表面修飾微細粒子の製造方法である。

請求項（抜粋）：

水溶性無機化合物を含有する液相中にII-VI族系化合物の微細粒子を分散させ、前記微細粒子の表面を前記水溶性無機化合物によって修飾する工程を含むことを特徴とする表面修飾微細粒子の製造方法。