特許

J-GLOBAL ID：200903047947437501

基板端縁処理装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-267433
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115872
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】 基板の裏面側端縁に溶剤が残留することのないようにする。【解決手段】 表面に薄膜が形成された基板Bの端縁の不要薄膜を除去する基板端縁処理装置5において、基板Bを水平姿勢で保持する基板支持機構3と、この基板支持機構3に保持された基板Bの表面側端縁に向けて溶剤を吐出する吐出口を備えた溶剤供給管53と、基板Bの表面側縁部に供給された溶剤を吸引して系外に排出する長尺開口58を備えた吸引管52と、基板Bの裏面側端縁に付着した溶剤を吸引する吸引口を備えた第2吸引管54とを有している。溶剤供給管53が溶剤を吐出する吐出位置と、この吐出位置より基板Bに対して後退した後退位置との間で溶剤供給管53と吸引管52と第2吸引管54とを一体的に進退させるノズルデッキ進退手段55が備えられている。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜が形成された基板の端縁の不要薄膜を除去する基板端縁処理装置において、基板を保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の表面側端縁に向けて溶剤を吐出口から吐出して不要な薄膜を溶解させる溶剤吐出ノズルと、溶剤により溶解された溶解物を吸引する溶解物吸引手段と、基板の裏面側端縁に付着した溶剤を吸引する吸引口を備えた溶剤吸引ノズルとを有することを特徴とする基板端縁処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (4件)：

H01L 21/306 R ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 577