特許

J-GLOBAL ID：200903047948689296

静電噴霧被覆装置および方法

発明者： シーバー,アルバート イー. ,  バーグレン,ウィリアム アール. ,  ダニエルソン,ダニエル アール. ,  ハーキンス,ユージーン,イー. ,  ケドル,ロス エム.
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-508498
公開番号（公開出願番号）：特表平8-501723
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】基材上に薄い被覆を塗布するための静電噴霧被覆ヘッド構造体(10)であって、成形構造体(15)上への液体を計量するスロット(20)またはブレードを有し、該成形構造体(15)は該液体を該成形構造体(15)を取り巻く単一の均一かつほぼ一定の局所的曲率半径にする。該成形構造体(15)を取り巻く液体に負荷された電圧によって該液体は空間的かつ時間的に固定された一連のフィラメントを生成し、フィラメントの個数は規定され時間的に固定されており、フィラメントの個数は上記負荷電圧の単純な調節により規定される。該フィラメントは破砕して帯電液滴の均一なミストになり、電界により基材に導かれて被覆を形成する。静電噴霧被覆方法も開示されている。

請求項（抜粋）：

静電噴霧被覆方法に用いるための静電噴霧被覆ヘッド構造体において、 a)下部成形手段に液体を供給する計量部、および b)該計量部の下方に配置された下部成形手段であって、該計量部から供給された液体が該下部成形手段上に流れて該下部成形手段を取り囲むように配置されており、該下部成形手段から延びている該液体のフィラメントの個数および位置を該下部成形手段を取り囲んでいる該液体の表面に負荷された電位の大きさに依存して変え得るように且つ特定の電位において該液体フィラメントが空間的かつ時間的に固定されて高電荷の液滴から成る均一なミストが生成できるように、該下部成形手段が単一の連続的且つほぼ一定の局所的曲率半径を持つ上記供給された液体の層を該下部成形手段の周囲に生成する下部成形手段、を含んで成ることを特徴とする静電噴霧被覆ヘッド構造体。

IPC (2件)：

B05B 5/057 ,  B05D 1/04