特許

J-GLOBAL ID：200903047950425557

微粒子噴射加工装置

発明者： 三島 彰生
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 稲本 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-166821
公開番号（公開出願番号）：特開平5-337832
出願日： 1992年06月02日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：

【要約】【目的】 噴射室を小型化し、被加工物とホルダの清掃を容易にし、また極微粒子を供給部へ確実に回収できるようにする。【構成】 被加工物4を噴射室5の上部に被加工面を下向きにして配置し、ノズル20をXYステージ23により直交2方向に移動させながら、ノズル20から極微粒子2を圧縮空気とともに噴射して加工する。

請求項（抜粋）：

被加工物が収納された噴射室と、前記噴射室内に極微粒子を圧縮空気とともに送給する送出管と、前記送出管の先端に前記被加工物の被加工面に対向して設けられ、前記圧縮空気とともに前記極微粒子を前記被加工面に噴射するノズルとを備えた微粒子加工装置であって、前記被加工物を前記噴射室の上部に前記被加工面を下向きに配置するとともに、前記ノズルを直交する2方向に駆動する駆動部材を設けたことを特徴とする微粒子噴射加工装置。

IPC (2件)：

B24C 3/04 ,  B24C 9/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-068368
  
• 特開平3-231096
  
• 特開昭63-139698
  
• 特開昭63-123670