特許
J-GLOBAL ID：200903047964391019
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160713
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005524
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、マイクロ波が伝播する導波管5の一部に対向した複数の誘電体、例えば石英板2,6を配置することにより成る共振器7を設けるように構成した。【効果】共振器を小さく作ることができるので、プラズマを安定にかつ均一に生成することができる小型のプラズマ処理装置を製作することが可能であるという効果がある。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、マイクロ波が伝播する導波管の一部に複数の誘電体を配置することにより構成された共振器を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
