洗浄方法及び洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-073255
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308374
出願日： 1998年03月06日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】被洗浄物中心部表面が破壊されるのを防止し、とくに被洗浄物がウエハである場合静電気によりウエハ中心部表面の電子回路に静電破壊が起こるのを防止し、また、洗浄液が被洗浄物の回転中心にも適当な量だけ当たるため被洗浄物全面に洗浄液が当たり良好に洗浄ができる洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【解決手段】回転する薄板状の被洗浄物Wの被洗浄面に対向しつつ移動するノズル25から噴射された洗浄液を被洗浄物Wに吹き付け、被洗浄面に付着するダストを除去し、被洗浄物を洗浄する液噴射洗浄工程を含む洗浄方法において、液噴射洗浄工程において、被洗浄面へ吹き付けられた洗浄液流の中心の移動軌跡が、被洗浄物の回転中心に最も接近した状態において中心から所定距離dだけ離れている。

請求項（抜粋）：

回転する薄板状の被洗浄物の被洗浄面に対向しつつ移動するノズルから噴射された洗浄液を前記被洗浄物に吹き付け、前記被洗浄面に付着するダストを除去し、前記被洗浄物を洗浄する液噴射洗浄工程を含む洗浄方法において、前記液噴射洗浄工程において、前記被洗浄面へ吹き付けられた洗浄液流の中心の移動軌跡が、前記被洗浄物の回転中心に最も接近した状態において該中心から所定距離dだけ離れていることを特徴とする洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 1/04 , B08B 3/02

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 E , B08B 1/04 , B08B 3/02 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭56-067926
特開昭56-067926

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