基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-305867
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145109
出願日： 1997年11月07日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】傾斜させた状態、あるいは起立させた状態の基板に対し、本来の処理前に事前に処理液を供給して基板を濡らすようにした装置であって、処理むらの発生をより確実に防止して、基板面内での処理の均一性を良好に確保する。【解決手段】処理槽12に、処理中にエッチング液を供給するシャワーノズル20を設けるとともに、処理槽12への搬入中にエッチング液液を供給するスリットノズル22とを設け、傾斜させた基板Wを該姿勢のまま、水平面と平行で、かつ傾斜方向と直交する方向に搬送しつつ各ノズル20,22によりエッチング液を供給するようにエッチング装置10を構成した。上記ノズル22は、基板Wの傾斜方向における上方端部が下方端部よりも搬送方向における下流側に位置するように、基板Wの傾斜方向に対して角度θ2を有するように傾けた状態で配設した。

請求項（抜粋）：

処理槽の内部に、処理中に基板に対して処理液を供給する主液吐出手段と、処理槽の入口近傍に配設され、該処理槽への基板の搬入中に基板に処理液を供給する副液吐出手段とを備え、水平面に対して所定の角度をなす基板姿勢方向に傾斜あるいは起立させた基板を、該基板姿勢のまま、前記水平面と平行で、かつ前記基板姿勢方向と直交する方向に搬送しつつ上記入口を介して処理槽内に導入して処理を施す基板処理装置において、上記副液吐出手段は、上記基板に対向配置されるとともに、上記基板姿勢方向における上方端部が下方端部よりも上記搬送方向における下流側に位置するように、上記搬送方向に対して角度をなすように配置されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , H01L 21/304 341 , H05K 3/06

FI (3件)：

H01L 21/306 R , H01L 21/304 341 N , H05K 3/06 Q

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