特許

J-GLOBAL ID：200903047971368065

極短波放射線を発生する方法、前記放射線によって装置を製造する方法、極短波放射線源装置およびこのような放射線源装置が装備されたリソグラフィ投影装置

発明者： テオドルス、エイチ.ジェイ.ビショップス
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-549064
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518730
出願日： 2000年12月13日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】媒体(39)の流れを生成するステップと、この媒体を真空ポンプ(75)に接続された放射線源空間(60)を通して移送するステップと、媒体の一部を媒体の一部に集束された強力なパルス化レーザビーム(41)で照射し、したがってEUV放射線を放射するプラズマ(47)を形成するステップとを含むEUV放射線を発生する方法が記載されている。EUV放射線空間の真空度を維持し、水蒸気又は初期粒子等の媒体の要素が、レーザビームそしてEUV放射線を通過させるために空間の壁に設けた開口から放出されないようにするために、媒体の流れを希ガス流で覆う。この方法およびIC装置ような装置の製造およびリソグラフィ投影装置での方法の用途を実現するEUV放射線源装置も記載されている。

請求項（抜粋）：

極短波放射線を発生する方法であって、媒体を、真空空間を移送し、かつ毎回前記真空空間の前記媒体の一部分を、パルス状の集束された高エネルギー・レーザビームで照射して、前記媒体の一部を、極短波放射線を放射するプラズマに変換する方法であって、前記媒体の移送方向に平行に、前記真空空間を移送される少なくとも希ガスの粘性流で前記媒体を包み込むことを特徴とする方法。

IPC (6件)：

H05G 2/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00 Z ,  G21K 5/08 Z ,  H05G 1/00 K ,  H01L 21/30 531 S

Fターム (13件)：

2H097AA02 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  2H097LA20 ,  4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  5F046BA03 ,  5F046GC03