特許

J-GLOBAL ID：200903047974239525

光学材料

発明者： 土井 亨 ,  石川 朋宏
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-159438
公開番号（公開出願番号）：特開平5-196801
出願日： 1991年06月04日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 透明性、耐熱性、表面硬度および機械的強度等に優れた光学材料を得る。【構成】 ポリマ-全体の50〜98モル%を(I)で示される化合物の少なくとも1種からなる構成単位とし、ポリマ-全体の50〜2モル%を(II)で示される化合物の少なくとも1種からなる構成単位とし、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1×103以上5×106以下である樹脂からなることを特徴とする光学材料。【化1】(ここで、R1は炭素数1〜18のアルキル基または炭素数3から8のシクロアルキル基を示す)【化2】(ここで、R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基であり、R3およびR4は炭素数1〜8のアルキル基を示す)

請求項（抜粋）：

ポリマ-全体の50〜98モル%を(I)で示される化合物の少なくとも1種からなる構成単位とし、ポリマ-全体の50〜2モル%を(II)で示される化合物の少なくとも1種からなる構成単位とし、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1×103以上5×106以下である樹脂からなることを特徴とする光学材料。【化1】(ここで、R1は炭素数1〜18のアルキル基または炭素数3から8のシクロアルキル基を示す)【化2】(ここで、R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基であり、R3およびR4は炭素数1〜8のアルキル基を示す)

IPC (3件)：

G02B 1/04 ,  C08F210/00 MJR ,  C08F222/40 MNE

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-162509
  
• 特開昭61-162509