特許
J-GLOBAL ID:200903047975253459

磁気抵抗効果型磁気ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-076594
公開番号(公開出願番号):特開平5-282629
出願日: 1992年03月31日
公開日(公表日): 1993年10月29日
要約:
【要約】【構成】Ta膜に主に高融点の金属を添加して膜が薄くても電気抵抗のばらつきが少なくその調節が可能なTa合金膜とし、これを磁気抵抗効果型磁気ヘッドのバイアス磁界印加用のシャント膜に使用した。このTa合金シャントバイアス方式を基本に磁気抵抗効果膜の磁区安定化用の反強磁性膜、さらにバイアス磁界エンハンス用の軟磁性膜をシャント膜の上部あるいは下部に設け、さらにそれらを挟むように絶縁層を介して磁気シールド層を設けて実際の磁気抵抗効果ヘッドとした。【効果】ヘッドのバイアス磁界強度のばらつきを大幅に減少させ、S/N比を大幅に向上し、ヘッド特性のばらつきが低減する。また、エラーコレクション回路への負担も軽くする効果がある。
請求項(抜粋):
Ni,FeおよびCoを主成分とする合金からなる磁気抵抗効果膜と、Taを主成分とする合金からなるシャント膜との2層膜を基本にした構造をもつことを特徴とする磁気抵抗効果型磁気ヘッド。

前のページに戻る