特許

J-GLOBAL ID：200903047976598840

レーザ支援による粒子分析

発明者： ウィリアム ディヴィッド リーンツ
出願人/特許権者： エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
代理人 (1件)： 岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-005690
公開番号（公開出願番号）：特開平8-240566
出願日： 1996年01月17日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、高い電気陰性度と高いイオン化電位を持つ成分に対する感度限界なしに、サンプル中の高い割合の粒子を分析するように、サンプルの粒子成分を分析する方法と機器を提供する。【解決手段】 本発明は、粒子の直径が0.001〜10ミクロンのサンプルの粒子成分を分析するための機器を含む。本機器は粒子を含むガス流が入るチャンバの入り口を備えた真空チャンバを含む。細管のような吸入装置は、粒子を含むガス流を真空チャンバに吸入するためにチャンバの入り口と連絡する。レーザは、チャンバの入り口から約0.1mmの位置で粒子を含むガス流を横切る、焦点の合ったレーザ・ビームを発生するように設置される。レーザ・ビームは、粒子を含むガス流に混入している粒子を破砕・イオン化するのに充分な出力密度を持つ。検知器は、レーザによって発生したイオン化された化学種を検知するように設置される。

請求項（抜粋）：

サンプルの粒子が0.001〜10ミクロンの直径を持つ、サンプルの粒子成分を分析する機器であって、粒子を含むガス流が入る入り口を含む、真空チャンバと、粒子を含むガス流を真空チャンバに吸入するために、チャンバの入り口と連絡する吸入装置と、レーザ・ビームが、粒子を含むガス流に混入している粒子を破砕・イオン化するのに充分な出力密度を持つ、チャンバの入り口から約0.1mmの位置で粒子を含むガス流を横切る、焦点の合ったレーザ・ビームを発生するように設置されたレーザと、レーザによって発生する、イオン化された化学種を検知するように設置された検知器とを含む機器。

IPC (3件)：

G01N 27/64 ,  G01N 15/10 ,  H01J 49/26

FI (3件)：

G01N 27/64 B ,  G01N 15/10 A ,  H01J 49/26