特許
J-GLOBAL ID:200903047978531190

電子線照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 半田 昌男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-013944
公開番号(公開出願番号):特開平9-211199
出願日: 1996年01月30日
公開日(公表日): 1997年08月15日
要約:
【要約】【課題】 電子線を大気中で照射する場合に、照射空間の周辺に位置する構造物について耐蝕性の向上を図ることができる電子線照射装置を提供する。【解決手段】 照射空間22の周辺に位置する構造物の表面を、耐蝕性材料で被覆する。ここで、耐蝕性材料で被覆する構造物は、具体的には、クランプ板36及びビームコレクタ24である。これにより、かかる構造物の耐蝕性の向上を図ることができる。また、耐蝕性材料としては、軽元素の窒化物や酸化物を使用する。これにより、たとえクランプ板36の表面を被覆した耐蝕性材料が腐食し、腐食物質が窓箔32に付着したとしても、その腐食物質で電子線が吸収される割合を小さく抑えることができるので、窓箔32にはピンホールが空きにくくなると共に、照射室20に取り出される電子線の量の大幅な低下を防止できる。
請求項(抜粋):
電子線を発生する電子線発生部と、被処理物に前記電子線を照射する処理を行う照射室と、前記電子線発生部内の真空雰囲気と前記照射室内の照射雰囲気とを仕切ると共に前記電子線を前記照射室内に取り出す窓箔とを備える電子線照射装置において、前記電子線を前記被処理物に照射する照射空間の周辺に位置する構造物の表面を耐蝕性材料で被覆したことを特徴とする電子線照射装置。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-166000
  • 電子加速器
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-091356   出願人:テトララバルホールデイングスエフイナンスソシエテアノニム
  • 特開昭61-178700

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