特許
J-GLOBAL ID:200903047981121068
洗浄装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
綿貫 隆夫
, 堀米 和春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-305667
公開番号(公開出願番号):特開2008-119591
出願日: 2006年11月10日
公開日(公表日): 2008年05月29日
要約:
【課題】ジェット洗浄による粗洗浄と超音波洗浄による精密洗浄に於いて、洗浄水量の減少化を図る。【解決手段】洗浄槽10内に向けて、洗浄水としてのジェット水流を噴射ノズル22a,22bから噴射して、洗浄器材に付着する汚れを除去し、汚れを含む洗浄処理水を洗浄槽10から排水するジェット洗浄手段と、前記ジェット洗浄手段で洗浄された洗浄器材が収容されている洗浄槽10内に、前記洗浄器材が浸漬するように洗浄剤を含有する洗浄液を貯留し、前記洗浄器材に対して超音波発信器20から超音波を照射して、前記洗浄器材に残留している汚れを除去する超音波洗浄手段と、洗浄槽10の上方に設けられたリザーブタンク14に、前記超音波洗浄手段で用いた洗浄水を貯留する貯留手段と、リザーブタンク14に貯留された洗浄水を、洗浄槽10に移動して超音波用洗浄水として再使用する再使用手段とを具備することを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
洗浄槽に収容された洗浄器材に向けて、洗浄水としてのジェット水流を噴射ノズルから噴射して、前記洗浄器材に付着する汚れを除去し、前記汚れを含む洗浄処理水を洗浄槽から排水するジェット洗浄手段と、
前記ジェット洗浄手段で洗浄された洗浄器材が収容されている前記洗浄槽内に、前記洗浄器材が浸漬するように洗浄剤を含有する洗浄液を貯留し、前記洗浄器材に対して超音波を照射して、前記洗浄器材に残留している汚れを除去する超音波洗浄手段と、
前記洗浄槽の上方に設けられたリザーブタンクに、前記超音波洗浄手段で用いた洗浄水を貯留する貯留手段と、
前記リザーブタンクに貯留された洗浄水を、前記洗浄槽に移動して超音波用洗浄水として再使用する再使用手段とを具備することを特徴とする洗浄装置。
IPC (5件):
B08B 3/12
, B08B 3/02
, B08B 3/08
, B08B 5/00
, A61B 19/00
FI (5件):
B08B3/12 A
, B08B3/02 A
, B08B3/08 Z
, B08B5/00 Z
, A61B19/00 513
Fターム (24件):
3B116AA46
, 3B116AB33
, 3B116AB45
, 3B116BB02
, 3B116BB22
, 3B116BB82
, 3B116BB83
, 3B116CA01
, 3B116CC01
, 3B116CC03
, 3B116CD22
, 3B201AA46
, 3B201AB33
, 3B201AB45
, 3B201BB02
, 3B201BB03
, 3B201BB22
, 3B201BB82
, 3B201BB83
, 3B201CB12
, 3B201CB21
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CD22
引用特許:
出願人引用 (6件)
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医療器具洗浄装置および方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-163462
出願人:サラヤ株式会社, 和泉電気株式会社
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洗浄殺菌ユニット
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-271773
出願人:アタム技研株式会社
-
水系洗浄システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-013341
出願人:オーブイ・エス・エンジニアリング株式会社, 丸俊一
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審査官引用 (5件)
-
洗浄殺菌ユニット
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-271773
出願人:アタム技研株式会社
-
水系洗浄システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-013341
出願人:オーブイ・エス・エンジニアリング株式会社, 丸俊一
-
分析装置の洗浄機構
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-087506
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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