磁気記録デバイスおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：合田潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-278684
公開番号（公開出願番号）：特開平8-212540
出願日： 1995年10月26日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【課題】磁気記録デバイスの表面を被覆する改良された耐摩耗性保護被膜を提供することにある。【解決手段】耐摩耗性保護被膜14は、フッ素化ダイヤモンド・ライク炭素により形成される。保護被膜は、フッ化炭化水素を用いたプラズマ励起CVD法または他の適切な方法で付着される。保護被膜は、低摩擦および低スティクション特性を与える。

請求項（抜粋）：