特許
J-GLOBAL ID：200903047993565530
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-265144
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092790
出願日： 1996年09月13日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】 基板の不均一な乾燥による処理品質の低下を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板搬送装置21は、X方向に往復走行可能な走行部材23と、走行部材23に対して上下移動可能な支持部材24と、支持部材24に支持された一対のチャック25とを有する。一対のチャック25は、それぞれね支持部材24に軸止されて回動可能な一対の回転軸26と、一対の回転軸26から垂下する支持棒27と、支持棒27間に架設された基板保持棒28とを有する。各基板保持棒28には、複数の基板Wの側縁を保持するための保持溝が刻設されている。そして、一対の回転軸26には、チャックに保持された基板Wの上方を覆いダウンフローによる気流を遮蔽するための一対のカバー30が配設されている。
請求項（抜粋）：
基板を処理するための処理液を貯留する処理液槽と、そこに保持した基板を前記処理液槽に浸漬することにより当該基板を処理するとともに、処理の終了した基板を前記処理液槽から次の処理部に搬送する基板搬送装置と、前記処理液槽の上方から流下する気流を発生させる気流発生手段とを有する基板処理装置において、前記搬送手段に保持された基板の上方位置に、前記気流を遮蔽するためのカバーを配設したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
H01L 21/306 J
, H01L 21/304 341 C
, H01L 21/68 A
