特許

J-GLOBAL ID：200903047997703490

3位が置換されたスチルベン誘導体の化粧品組成物における脱臭活性剤としての用途

発明者： クリストフ クールビエール ,  フランシス プリュシュ ,  シルヴァン クラヴチェンコ
出願人/特許権者： ロレアル
代理人 (1件)： 園田 吉隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-040328
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247853
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】 好ましくは水溶性で、体臭の発生を効果的に防止する性質を有する物質を提供する。【解決手段】 化粧品組成物において、脱臭活性剤として、式(I):【化1】[上式中、Aは水素原子又はOR2基、R1及びR2は、水素原子;アルキル基;アシル基;基PO(OX1)(OX2)又は基SO2(OX3)(ここで、X1、X2、及びX3は水素原子又は一価アルカリ金属等)等、R4及びR5は、水素原子等を表す]の化合物を使用する。

請求項（抜粋）：

化粧品組成物における脱臭活性剤としての、以下の式(I):【化1】[上式中、Aは水素原子又はOR2基を示し、R1及びR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子;C1-C4アルキル基;アシル基R3CO(ここで、R3は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和、ヒドロキシル化又は非ヒドロキシル化、カルボキシル化又は非カルボキシル化C1-C30炭化水素系基を表す);基PO(OX1)(OX2)又は基SO2(OX3)(ここで、X1、X2、及びX3は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は一価アルカリ金属又はNH4+カチオンを表し、ここで、X1及び/又はX2は、また二価の金属カチオンを表すことができる);グリコシル基;ウロニル基を表し;R4及びR5は、同一であり、水素原子又はヒドロキシル基を表す]の少なくとも1つの化合物の使用。

IPC (4件)：

A61K 7/32 ,  C07C 39/21 ,  C07C 43/215 ,  C07C 43/23

FI (4件)：

A61K 7/32 ,  C07C 39/21 ,  C07C 43/215 ,  C07C 43/23 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シワ予防用化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-325341   出願人：花王株式会社
• 特開平3-200725
  
• 特表2000-527361