特許

J-GLOBAL ID：200903048011275662

光学基板、その製造方法と製造装置、および光学装置

発明者： 高桑 敦司
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-089807
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287605
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】 光透過性基板の面上に薄膜パターンを効率良く形成でき、基板の大面積化にも対応できる光学基板の製造方法を目的とする。【解決手段】 光透過性基板10上に、SAMsパターン22を形成する工程と、SAMsパターン22上にブラックマトリクス24を形成する工程を有する光学基板の製造方法であって、1枚の光透過性基板10上に形成されるSAMsパターン22を複数の部分パターンに分割して、各部分パターンをマイクロコンタクトプリンティングによりそれぞれ形成する。

請求項（抜粋）：

光透過性基板上に、自己組織化単分子層のパターンを形成する工程と、前記自己組織化単分子層のパターン上、または前記自己組織化単分子層のパターンが形成されていない領域の光透過性基板上のいずれかに薄膜パターンを形成する工程を有する光学基板の製造方法であって、1枚の光透過性基板上に形成される前記自己組織化単分子層のパターンを複数の部分パターンに分割して、各部分パターンをマイクロコンタクトプリンティングによりそれぞれ形成することを特徴とする光学基板の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 5/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01L 27/14

FI (6件)：

G02B 5/00 B ,  G02B 3/00 A ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01L 27/14 D

Fターム (27件)：

2H042AA09 ,  2H042AA26 ,  2H042BA04 ,  2H042BA12 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H048BA02 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB24 ,  2H091FA35Y ,  2H091FC13 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091FD04 ,  2H091LA12 ,  4M118AB01 ,  4M118BA09 ,  4M118CA02 ,  4M118CA03 ,  4M118GB03 ,  4M118GB06 ,  4M118GB10 ,  4M118GB19 ,  4M118GB20 ,  4M118GC07 ,  4M118GD04