特許

J-GLOBAL ID：200903048014288110

瓦の製造方法

発明者： 佐々木 賢一 ,  川上 兼之
出願人/特許権者： 石央瓦販売株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069442
公開番号（公開出願番号）：特開2000-264760
出願日： 1999年03月16日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課 題】前工程と後工程が別々の製造業者ないし産地で行われる還元焼成瓦の製造方法において、白地又は素焼きした半製品の瓦を出荷する際において生ずる問題、すなわち雨に濡れて吸水吸湿し、埃を被ること、運搬中や積み降ろし時に割れを生じ易いこと、釉薬を掛ける際の釉薬の濃度調整が容易でないこと等の問題を解消する。【解決手段】粘土を型に入れて瓦に成形する成形工程と、成形された粘土瓦を乾燥する乾燥工程と、乾燥された粘土瓦に釉薬を掛ける施釉工程と、施釉された瓦を窯に入れて酸化焼成する焼成工程を経て、別の製造業者ないし産地に出荷し、そこで還元窯に入れて還元焼成する工程よりなっている。Aは酸化焼成瓦の製造業者ないし産地で行う工程、Bは還元焼成瓦の製造業者ないし産地で行う工程を示す。

請求項（抜粋）：

粘土を型に入れて瓦に成形する成形工程と、成形された粘土瓦を乾燥する乾燥工程と、乾燥された粘土瓦に釉薬を掛ける施釉工程と、施釉された瓦を窯に入れて酸化焼成する焼成工程を経て、別の製造業者ないし産地に出荷し、そこで還元窯に入れて還元焼成することを特徴とする瓦の製造方法。

IPC (4件)：

C04B 41/86 ,  C04B 33/00 ,  C04B 35/64 ,  E04D 1/04

FI (4件)：

C04B 41/86 R ,  C04B 33/00 ,  E04D 1/04 A ,  C04B 35/64 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-037419
  
• 特開昭55-037419