特許

J-GLOBAL ID：200903048018277253

高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法

発明者： 赤崎 忠行 ,  河野 昭義 ,  高菅 和宏 ,  中村 修
出願人/特許権者： 日本シリカ工業株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-284958
公開番号（公開出願番号）：特開平7-138013
出願日： 1993年11月15日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：

【要約】【目的】 低分子有機化合物の吸着剤、クロマト用分離剤、ビール用濾過剤等に有用な、高い比表面積とコントロールされた高構造性を有する新規なシリカゲルを提供する。【構成】 BET比表面積700〜ll00m2 /g、細孔容積0.5〜2.5cc/g、細孔容積の90%以上が細孔直径20〜50Åにあり、かつBET比表面積をA(m2 /g)としメジアン細孔直径をB(Å)としたときにこれらの関係が、A×B≧25000であるシリカゲル。

請求項（抜粋）：

BET比表面積700〜ll00m2 /g、細孔容積0.5〜2.5cc/g、細孔容積の90%以上が細孔直径20〜50Åにあり、かつBET比表面積をA(m2 /g)としメジアン細孔直径をB(Å)としたときにこれらの関係が下記の式A×B≧25000で表わされることを特徴とするシリカゲル。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特許第1077908号