特許
J-GLOBAL ID:200903048021464099

磁性体のインサート成形方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松本 英俊 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-062575
公開番号(公開出願番号):特開平7-266350
出願日: 1994年03月31日
公開日(公表日): 1995年10月17日
要約:
【要約】【目的】 成形型の成形室内に位置決めピンを用いずに磁性体を位置決めすることができる磁性体のインサート成形方法を提供する。【構成】 成形型9の成形室10内に磁性体3aを位置決めして配置し、成形室10内に樹脂5aを充填してインサート成形を行うに際し、成形型9の外に配置した電磁石15の磁極16a,16aを成形室10に臨ませて配置する。そして電磁石15を励磁状態にして磁極16a,16aに磁性体3aを吸引して磁性体3aの位置決めを行う。
請求項(抜粋):
成形型内の成形室に磁性体を位置決めして配置し、該成形室内に樹脂を充填して成形を行う磁性体のインサート成形方法において、前記成形型の成形室内における前記磁性体を、磁石の吸引力を利用して位置決めすることを特徴とする磁性体のインサート成形方法。
IPC (6件):
B29C 39/10 ,  B29C 33/16 ,  B29C 39/22 ,  H01F 1/113 ,  H01F 41/00 ,  B29K101:00
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭57-110419
  • 特開昭60-025708
  • 特開昭57-110419
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