特許
J-GLOBAL ID：200903048024999112
回転カソードターゲットとその製法及び該ターゲットにより成膜される膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-194207
公開番号（公開出願番号）：特開平7-026372
出願日： 1993年07月09日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】【構成】熱間等方圧プレスによりZnOを主成分としGa2 O3 を1〜10%含有するセラミックス層が形成されてなる回転カソードターゲットとその製造方法および該ターゲットを用いて成膜される膜。【効果】ターゲット中のGa2 O3 がGa固溶ZnO相として存在するので使用中の黒化が、ほとんどなく長時間使用しても膜の比抵抗の増加などの経時変化が少なく、安定して高速成膜できる。
請求項（抜粋）：
円筒状ターゲットホルダー上にアンダコートを形成し、次いで、ZnOを主成分としGa2 O3 を1〜10%含有する粉末または該粉末の成形体を配置し、熱間等方圧プレスを行いセラミックス層を形成して製造することを特徴とする回転カソードターゲットの製造方法。
IPC (5件)：
C23C 14/34
, C01G 9/02
, C01G 15/00
, C04B 35/48
, B22F 7/00
