特許
J-GLOBAL ID：200903048025658165
投射光学系及び画像投射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-064734
公開番号（公開出願番号）：特開2009-222806
出願日： 2008年03月13日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】より容易に製造することが可能な投射光学系を提供する。より容易に製造することが可能な投射光学系を含む画像投射装置を提供する。【解決手段】回転対称な光学系及び回転非対称な光学系からなると共に物体からの光を被投射面に投射する投射光学系において、前記回転非対称な光学系は、回転非対称な反射面を備えた少なくとも一つの光学素子からなると共に、前記回転非対称な反射面は、二次元座標の関数として表現される曲面であり、且つ、前記光で照射される該曲面の領域において、該二次元座標における少なくとも一つの方向の座標に関する該関数の偏微分係数が、正又は負の値である。画像を非投射面に投射する画像投射装置は、上記投射光学系を含む。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
回転対称な光学系及び回転非対称な光学系からなると共に物体からの光を被投射面に投射する投射光学系において、
前記回転非対称な光学系は、回転非対称な反射面を備えた少なくとも一つの光学素子からなると共に、
前記回転非対称な反射面は、二次元座標の関数として表現される曲面であり、且つ、前記光で照射される該曲面の領域において、該二次元座標における少なくとも一つの方向の座標に関する該関数の偏微分係数が、正又は負の値である
ことを特徴とする投射光学系。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
2K103AA01
, 2K103AA05
, 2K103AA11
, 2K103AA16
, 2K103AB10
, 2K103BC03
, 2K103BC05
, 2K103BC23
, 2K103BC48
, 2K103CA20
, 2K103CA26
, 2K103CA47
, 5C058EA01
, 5C058EA02
, 5C058EA13
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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