特許

J-GLOBAL ID：200903048029734478

精密基板の洗浄液及び洗浄方法

発明者： 森谷 二郎 ,  鈴木 雅之 ,  中津 正幸 ,  岡崎 智 ,  柴野 由紀夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-251534
公開番号（公開出願番号）：特開2001-070898
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 精密基板を洗浄するに際し、洗浄能力を低下させることなく、洗浄で一旦基板から離れたパーティクルの再付着を防止することができる洗浄液および洗浄方法を提供する。【解決手段】 精密基板を洗浄する洗浄液であって、アルカリ性界面活性剤を希釈水で希釈して酸化還元電位を-300mV以下に調製したアルカリ性界面活性剤を含有する水溶液であり、希釈水が、水素を1ppm以上溶解した水素水である精密基板の洗浄液及び洗浄方法。

請求項（抜粋）：

精密基板を洗浄する洗浄液であって、アルカリ性界面活性剤を希釈水で希釈して酸化還元電位を-300mV以下に調製したアルカリ性界面活性剤を含有する水溶液であることを特徴とする精密基板の洗浄液。

IPC (3件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/304 647

FI (3件)：

B08B 3/08 A ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 647 B

Fターム (11件)：

3B201AA01 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB94 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21