特許

J-GLOBAL ID：200903048033656830

分子量分布の狭いスチレン系重合体の製造方法

発明者： 小川 哲夫
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-026236
公開番号（公開出願番号）：特開平8-259615
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【課題】 重合反応速度が極めて速く、しかも分子量分布の狭い単分散スチレン系重合体の製造方法を提供すること。【解決手段】 触媒としてフリーラジカル化合物、ラジカル重合開始剤およびりん化合物から成る混合物を用いてスチレン系モノマーを(共)重合することを特徴とする分子量分布の狭いスチレン系重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

スチレン系モノマー又はスチレン系モノマーと他のコモノマーをラジカル重合法により重合又は共重合することにより分子量分布の狭いスチレン系重合体を製造する方法において、該重合又は共重合をフリーラジカル化合物、ラジカル重合開始剤およびりん化合物からなる触媒系の存在下に行なうことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 12/08 ,  C08F293/00 MRK ,  C08F 2/38 MCN

FI (4件)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 12/08 ,  C08F293/00 MRK ,  C08F 2/38 MCN

引用特許：

審査官引用 (1件)

• フリーラジカル重合方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-277255   出願人：ゼロックスコーポレイション