特許

J-GLOBAL ID：200903048033766309

ラップ加工用定盤

発明者： 宿女 正敏
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-332816
公開番号（公開出願番号）：特開平6-179165
出願日： 1992年12月14日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：

【要約】【構成】 被加工物Aを研磨するラップ加工の定盤1を成す基体2の表面3に、軟質材からなり、かつ被加工物Aに当接して研磨する頭頂面4aを有する凸状体4を複数個配設する。【効果】 定盤の厚みを薄くし、かつ基体と軟質材の熱膨張の差による変形を少なくでき、温度管理を必要とせずに高い研磨加工精度が得られる。

請求項（抜粋）：

被加工物を研磨するラップ加工の定盤を成す基体の表面に、軟質材からなり、かつ被加工物に当接して研磨する頭頂面を有する凸状体を複数個配設したことを特徴とするラップ加工用定盤。