特許
J-GLOBAL ID：200903048038146929
表面加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003884
公開番号（公開出願番号）：特開平6-215722
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 走査型トンネル顕微鏡などを用いて固体表面に人工構造を形成する目的に利用される。特に、固体表面での原子操作により、該表面の広い範囲にわたって、本来そこに存在しなかった原子や分子を効率的、かつ位置精度良く集積すること。【構成】 集積すべき原子や分子を、予め周期的、規則的に設ける。この原子や分子を原子操作を行う際の位置決めの基準として利用する。
請求項（抜粋）：
基板表面上で原子、分子あるいはこれらの集合体を操作をすることを目的とする基板表面上の所定の位置に集積すべき原子、分子あるいはこれらの集合体を周期的、規則的に配列することと、この周期的、規則的に配列された原子、分子あるいはこれらの集合体を基板表面上で前記原子、分子あるいはこれらの集合体が配列されていない基板表面上に移動せしむることを特徴とする表面加工方法。
引用特許：
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