特許
J-GLOBAL ID：200903048048825425
マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090066
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258433
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】本発明は、露光する回路パターン面が大型化したマスクを用いた場合においても転写不良を出すことなく確実に転写できるようにする。【解決手段】本発明は、回路パターンを有するマスク上の回路パターン配列に基づいて、マスク上に分割して配設された複数のペリクルフレーム上にペリクルを貼り付けることにより、マスクが大型化した場合においても、回転パターンの配列に基づいてペリクルフレーム及びペリクルを小型化でき、かくしてペリクルフレーム及びペリクルの変形を防止して転写不良を出すことなく確実に転写することができる。
請求項（抜粋）：
回路パターンを有するマスクであつて、前記回路パターンの配列に基づいて、前記マスク上に分割して配設された複数のペリクルフレームと、前記ペリクルフレームに貼り付けられたペリクルとを備えたことを特徴とするマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/14 J
, G03F 1/14 K
, H01L 21/30 502 P
