特許
J-GLOBAL ID:200903048068450711
希土類コバルト系磁石合金の表面処理方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-265745
公開番号(公開出願番号):特開平6-120014
出願日: 1992年10月05日
公開日(公表日): 1994年04月28日
要約:
【要約】【目的】 ワレ,カケの発生が少なく且つ処理費用が安価な,希土類コバルト系磁石合金の表面処理方法を提供すること。【構成】 希土類コバルト系磁石合金の表面処理方法は,研削加工された希土類コバルト系磁石合金の該被研削面の表面層を酸化させる酸化処理を含む。
請求項(抜粋):
研削加工された希土類コバルト系磁石合金の該被研削面の表面層を酸化させる酸化処理を含むことを特徴とする希土類コバルト系磁石合金の表面処理方法。
IPC (3件):
H01F 1/053
, C23C 22/00
, H01F 41/02
引用特許:
前のページに戻る