特許
J-GLOBAL ID：200903048072376941
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-302205
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186650
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 新規なノボラック樹脂による優れた性能のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 フェノール類の混合物の原料は、m-及びp-クレゾール;2,3-、3,4-、3,5-キシレノール及びそれらの混合物群から選ばれるフェノールモノマー;及びp-、m-、o-メトキシフェノール及びそれらの混合物群から選ばれるメトキシフェノールモノマー;アルデヒド類の量が全てのフェノール部との反応に必要な化学量論量の約40〜200%;重量平均分子量が約3000〜20000、分子量分散度が1.5〜4.0、更に2.38重量%のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液における23°Cでの溶解速度が3〜100Å/秒であるアルカリ可溶性ノボラックバインダー樹脂を含むポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
フェノール類の混合物と少なくとも1つのアルデヒド類との付加縮合反応により得られるアルカリ可溶性ノボラックバインダー樹脂であって、該反応のためのフェノール類の混合物の供給原料は:(1)該フェノール類の混合物の約33〜83モル%がm-クレゾールであり;(2)該フェノール類の混合物の約1〜4モル%がp-クレゾールであり;(3)該フェノール類の混合物の約10〜60モル%が、2,3-キシレノール、3,4-キシレノール、3,5-キシレノール及びそれらの混合物からなる群から選ばれるフェノールモノマーであり;及び(4)該フェノール類の混合物の約5〜55モル%が、p-メトキシフェノール、m-メトキシフェノール、o-メトキシフェノール及びそれらの混合物からなる群から選ばれるメトキシフェノールモノマーである;該アルデヒド類の量が、該フェノール類の混合物における全てのフェノール部との反応に必要な化学量論量の約40〜200%である;重量平均分子量(Mw)が約3000〜20000であり、分子量分散度(Mw/Mn)が1.5〜4.0であり、更に2.38重量%のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)水溶液における23°Cでの溶解速度が3〜100Å/秒であるアルカリ可溶性ノボラックバインダー樹脂を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/023 511
, C08L 61/06
, G03F 7/039
, H01L 21/027
G03F 7/023 511
, C08L 61/06
, G03F 7/039
, H01L 21/30 502 R
