特許
J-GLOBAL ID:200903048105360477
シャンプー組成物
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-022621
公開番号(公開出願番号):特開平11-209249
出願日: 1998年01月20日
公開日(公表日): 1999年08月03日
要約:
【要約】【課題】ふけ、かゆみを防ぐ効能を有し、洗浄中の泡立ち、泡の感触が良好で、充分な洗浄効果が得られ、かつ、すすぎ時に滑らかな感触を与える優れた品質を有するシャンプー組成物を提供する。【解決手段】(A)テトラデセンスルホン酸塩 1〜15重量%、(B)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩 1〜15重量%、(C)両性界面活性剤1〜10重量%、(D)カチオン性ポリマー 0.05〜5重量%、(E)サリチル酸及び/又はイソプロピルメチルフェノール 0.05〜1重量%を含有することを特徴とするシャンプー組成物。
請求項(抜粋):
次の成分(A)〜(E);(A)テトラデセンスルホン酸塩 1〜15重量%(B)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩 1〜15重量%(C)両性界面活性剤 1〜10重量%(D)カチオン性ポリマー 0.05〜5重量%(E)サリチル酸及び/又はイソプロピルメチルフェノール 0.05〜1重量%を含有することを特徴とするシャンプー組成物。
IPC (13件):
A61K 7/075
, C11D 1/14
, C11D 1/29
, C11D 1/90
, C11D 3/20
, C11D 3/382
, C11D 10/02
, C11D 17/08
, C11D 1:14
, C11D 1:29
, C11D 1:90
, C11D 3:382
, C11D 3:20
FI (8件):
A61K 7/075
, C11D 1/14
, C11D 1/29
, C11D 1/90
, C11D 3/20
, C11D 3/382
, C11D 10/02
, C11D 17/08
引用特許:
審査官引用 (10件)
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洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-107965
出願人:ライオン株式会社
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シャンプー組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-009295
出願人:川研ファインケミカル株式会社, 不二製油株式会社
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特開平2-166196
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特開平1-153618
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毛髪用洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-291860
出願人:花王株式会社
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頭髪化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-339268
出願人:株式会社資生堂
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特開昭62-267218
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特開平2-166196
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特開平1-153618
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特開昭62-267218
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