特許
J-GLOBAL ID：200903048117504598
電子線描画方法及び電子線描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
蛭川 昌信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190436
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045506
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 任意形状のシャープな外形で囲まれた領域内に回折格子状の繰り返しパターンを同時に速く描画できしかも干渉性の高い電子銃を用いなくてもよい。【構成】 任意の形状を持つ開口板APを通る電子線光束をビームスプリッタCRで相互に角度をなす2光束に振幅分割し、その分割された2光束をバイプリズムEBPで相互に近づく方向に偏向して、開口板APと共役な描画面P上で角度をなして交差させて、分割された2つの開口像を描画面上で重ね合わせることにより、開口像領域にのみその外形によって明確に区分された干渉縞パターンを描画する。
請求項（抜粋）：
任意の形状を持つ開口を通る電子線光束をビームスプリッタで相互に角度をなす2光束に振幅分割し、その分割された2光束をバイプリズムで相互に近づく方向に偏向して、開口と共役な描画面上で角度をなして交差させて、分割された2つの開口像を描画面上で重ね合わせることにより、開口像領域にのみその外形によって明確に区分された干渉縞パターンを描画することを特徴とする電子線描画方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
