特許
J-GLOBAL ID：200903048120106668
絶縁膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-083775
公開番号（公開出願番号）：特開平5-286785
出願日： 1992年04月06日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、絶縁膜の形成方法に関し、誘電率が低く信号を高速伝送することができるとともに、容易に微細加工することができ、しかも耐湿性及び機械的強度を向上させて信頼性を向上させることができる絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。【構成】 感光性を有する金属アルコキシド液と中空シリカを混合して焼成することにより中空セラミックス粉体含有感光性ガラス膜を形成するように構成する。
請求項（抜粋）：
感光性を有する金属アルコキシド液と中空シリカを混合して焼成することにより中空セラミックス粉体含有感光性ガラス膜を形成することを特徴とする絶縁膜の形成方法。
IPC (4件)：
C04B 41/86
, C03C 8/24
, C03C 14/00
, H01L 21/316
