特許
J-GLOBAL ID：200903048129734670
熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-253822
公開番号（公開出願番号）：特開平5-094980
出願日： 1991年10月01日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】【目的】本発明は、薄膜形成もしくは熱処理を行う基板の温度変動を低減すると共にその制御性を向上し、信頼性・制御性の高い膜形成を含む熱処理を実現し得る熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】本発明は、薄膜形成もしくは熱処理を行う基板1を加熱するための発熱体3と、該基板1の雰囲気を維持する熱処理室2と、該基板1を処理するために該熱処理室2内へ導入する処理ガス4と、該基板1の前方もしくは後方に配置した該処理ガス4の温度を制御する予熱体5a,5bとから成る熱処理装置において、該予熱体5a,5bが該処理ガス4のガス流の向きを変化する構成になっている。
請求項（抜粋）：
薄膜形成もしくは熱処理を行う基板を加熱するための発熱体と、該基板の雰囲気を維持する熱処理室と、該基板を処理するために該熱処理室内へ導入される処理ガスと、該基板の前方もしくは後方に配置された該処理ガスの温度を制御する予熱体とから成る熱処理装置において、該予熱体が該処理ガスのガス流の向きを変化させる構成になっていることを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
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