特許

J-GLOBAL ID：200903048132321564

酸化チタン光触媒コーティングを備える回転部材を用いる水質汚染浄化装置

発明者： キム スン ヒ ,  ユ ミュン イン ,  キム ヨン ヒ
出願人/特許権者： イーシー.テック カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-244694
公開番号（公開出願番号）：特開2002-059177
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 難分解性汚染物質、有害物質及び病原性細菌などを分解する、酸化チタン光触媒コーティングを備える回転部材を用いる水質汚染浄化装置の提供。【解決手段】 外部面が酸化チタン光触媒コーティングで塗布され、回転される汚染浄化手段10と、前記汚染浄化手段に回転動力を伝達する伝動手段20と、前記伝動手段の動力伝達により汚染源に酸素を供給する酸素供給手段40と、前記汚染浄化手段の光化学活性を誘導する光照射手段30とを含み、酸化チタンコーティングが前記光照射手段により活性化され、汚染物質が浄化される。前記汚染浄化手段は、一側が空気中に露出され、他側が液中に位置する半潜水式でなるようにする。前記酸素供給手段は、伝達される動力による汚染浄化手段の回転力により、大気中から水中汚染源に酸素を供給するようにする。

請求項（抜粋）：

外部面が酸化チタン光触媒コーティングで塗布され、回転される汚染浄化手段と、前記汚染浄化手段に回転動力を伝達する伝動手段と、前記伝動手段による動力伝達により汚染源に酸素を供給する酸素供給手段と、前記汚染浄化手段の光化学活性を誘導する光照射手段とを含み、酸化チタンコーティングが前記光照射手段により活性化され、伝動手段により回転されることにより、汚染物質と接触して、酸素供給により汚染物質が浄化されることを特徴とする酸化チタン光触媒コーティングを備える回転部材を用いる水質汚染浄化装置。

IPC (4件)：

C02F 1/72 101 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/30 ZAB ,  C02F 1/32

FI (4件)：

C02F 1/72 101 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/30 ZAB ,  C02F 1/32

Fターム (40件)：

4D037AA05 ,  4D037AA09 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037AB04 ,  4D037AB11 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037BB02 ,  4D037BB04 ,  4D037CA02 ,  4D037CA12 ,  4D050AA02 ,  4D050AA03 ,  4D050AA10 ,  4D050AA15 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB13 ,  4D050AB15 ,  4D050AB19 ,  4D050BB01 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA15 ,  4G069AA03 ,  4G069AA11 ,  4G069AA15 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069EA08 ,  4G069FB23