特許
J-GLOBAL ID：200903048145057440
走査露光装置、走査露光方法及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-037743
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230183
出願日： 2000年02月16日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：
【要約】【課題】 一つの露光列から次の露光列に露光を進める際のステージ送り制御に改良を加え、スループット向上やパターン精度向上に資することのできる走査露光装置等を提供する。【解決手段】 図中の時点101までは、レチクルステージのY軸は所定の速度で移動しており、ウェハステージと同期走査している。時点101で露光が終了し、時点102で減速を開始し、停まることはなく反転移動する。その後、時点205から先、レチクルステージとウェハステージは再びY方向に同期走査される。この間、ウェハステージのY軸速度は、時点203の後から時点203 ́の間に、同期制御の準備のための待ち時間Twがある。また、レチクルステージのX軸速度については、露光終了後は次のストライプの露光開始点まで同期制御する必要がないので、時点101から加速をスタートする。
請求項（抜粋）：
感応基板に転写すべきパターン(原版パターン)を有する原版を載置して移動する原版ステージと、前記原版パターンの一部をエネルギビームで照明する照明光学系と、前記原版パターンを通過した前記エネルギビームを前記感応基板に投影・結像させる投影光学系と、前記感応基板を載置して移動する基板ステージと、前記各部を制御する制御部と、を備え、複数の露光列(ストライプ)に分割されて前記原版上に形成された前記原版パターンを、前記原版と前記基板を同期走査させながら前記露光列毎に走査露光して前記基板上に転写する走査露光装置であって;前記制御部の制御により、一つの露光列から次の露光列に露光を進める際に、前記原版ステージ及び/又は前記基板ステージを停止させることなく連続的に移動させることを特徴とする走査露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 7/22 H
, H01L 21/30 541 L
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 541 S
5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC03
, 5F046CC13
, 5F056AA22
, 5F056CB23
, 5F056EA14
