特許
J-GLOBAL ID：200903048152672177
磁気ヘッド装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-166625
公開番号（公開出願番号）：特開平8-030944
出願日： 1994年07月19日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 低浮上量化及びスティクション現象の発生を抑え、且つ製造歩留りの向上を達成する。【構成】 磁気記録媒体との対接面に磁気ギャップgを臨ませるようにしてスライダー15の一主面に薄膜磁気ヘッド素子16が形成された磁気ヘッド装置の製造方法である。ウエハー上に複数形成された薄膜磁気ヘッド素子を短冊状に切断し、その切断されたヘッド素子ブロックの媒体対接面とは反対側の裏面にパウダービームエッチング加工を施した後、該ヘッド素子ブロックの媒体対接面をパウダービームエッチング加工により所定形状とする。
請求項（抜粋）：
磁気記録媒体との対接面に磁気ギャップを臨ませるようにしてスライダーの一主面に薄膜磁気ヘッド素子が形成された磁気ヘッド装置の製造方法において、ウエハー上に複数形成された薄膜磁気ヘッド素子を短冊状に切断し、その切断されたヘッド素子ブロックの媒体対接面とは反対側の裏面にパウダービームエッチング加工を施した後、該ヘッド素子ブロックの媒体対接面をパウダービームエッチング加工により所定形状とすることを特徴とする磁気ヘッド装置の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/60
, G11B 5/29
, G11B 21/21 101
