特許

J-GLOBAL ID：200903048154276236

基板処理装置

発明者： 高橋 信行 ,  小西 暁夫
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374548
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195925
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】 チャンバーが増えても専有面積が大きくならない実用的な基板処理装置を提供する。【解決手段】 中央のセパレーションチャンバー3の周囲に四つのロードロックチャンバー2と八つの処理チャンバー101,102,103,104,105,106,17,108とがゲートバルブ5を介して気密に接続されており、各々二カ所で積層されているとともに、各々排気系301,201,100によって排気可能となっている。セパレーションチャンバー3内の搬送機構42は、ロードロックチャンバー2から基板9を取り出して所定の順序で各処理チャンバー101,102,103,104,105,106,17,108に搬送した後にロードロックチャンバー2に戻す。各ロードロックチャンバー2は、常に同じ位置で一枚のみの基板9を保持する基板ホルダー22を内部に有する。

請求項（抜粋）：

中央に設けられた排気可能なセパレーションチャンバーと、セパレーションチャンバーの側面にゲートバルブを介して気密に接続されている排気可能なロードロックチャンバー及び排気可能な処理チャンバーと、セパレーションチャンバー内に設けられているとともにロードロックチャンバーから基板を取り出して所定の順序で各処理チャンバーに搬送した後にロードロックチャンバーに戻す搬送機構とを備えた基板処理装置において、前記ロードロックチャンバー及び又は前記処理チャンバーは複数設けられていて前記セパレーションチャンバーの周囲の少なくとも一カ所で積層されているとともに、前記ロードロックチャンバーは、一枚のみの基板を保持する基板ホルダーを内部に有していることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/54 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203

FI (5件)：

H01L 21/68 A ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/54 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/203 S

Fターム (34件)：

4K029JA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K057DA20 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DG02 ,  4K057DG13 ,  4K057DM36 ,  4K057DM38 ,  4K057DM39 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F031CA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA44 ,  5F031HA37 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031PA02 ,  5F031PA30 ,  5F103AA08 ,  5F103BB49 ,  5F103HH03 ,  5F103LL07 ,  5F103RR10