特許
J-GLOBAL ID:200903048155980883
排ガス処理触媒、排ガス処理方法および排ガス処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
, 松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-274930
公開番号(公開出願番号):特開2007-083161
出願日: 2005年09月22日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】 排ガスに含まれるSO3およびNOXをさらに効率良く低減することができる排ガス処理触媒を提供することにある。【解決手段】 排ガスに含まれる窒素酸化物および三酸化硫黄を除去する排ガス処理触媒であって、チタニア、シリカの少なくとも1種の単独酸化物またはこれらの複合酸化物からなり、金を担持した担体を基材の表面に塗布したことにより、前記金による前記アンモニアの分解反応を抑制して、前記排ガスに含まれる前記硫黄酸化物の内三酸化硫黄の還元反応および前記排ガスに含まれる前記窒素酸化物の還元反応を促進して、前記三酸化硫黄の濃度および前記窒素酸化物の濃度をさらに減少させるようにした。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
排ガスに含まれる窒素酸化物および三酸化硫黄を除去する排ガス処理触媒であって、
チタニア、シリカの少なくとも1種の単独酸化物またはこれらの複合酸化物からなり、金を担持した担体を基材の表面に塗布してなる
ことを特徴とする排ガス処理触媒。
IPC (7件):
B01J 23/68
, B01D 53/94
, B01D 53/86
, F01N 3/10
, F01N 3/08
, F01N 3/20
, F01N 3/24
FI (7件):
B01J23/68 A
, B01D53/36 102B
, B01D53/36 D
, F01N3/10 A
, F01N3/08 B
, F01N3/20 E
, F01N3/24 C
Fターム (70件):
3G091AA02
, 3G091AA06
, 3G091AB04
, 3G091AB11
, 3G091BA11
, 3G091BA14
, 3G091CA17
, 3G091GA06
, 3G091GB05W
, 3G091GB05X
, 3G091GB10W
, 3G091GB17X
, 3G091HA08
, 4D048AA02
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048AC04
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BA10X
, 4D048BA27X
, 4D048BA34X
, 4D048BA41X
, 4D048BA42X
, 4D048BB02
, 4D048CC32
, 4D048CC36
, 4D048DA02
, 4D048DA11
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA13A
, 4G169BA13B
, 4G169BA20A
, 4G169BA20B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC33A
, 4G169BC33B
, 4G169BC50A
, 4G169BC50B
, 4G169BC60A
, 4G169BC60B
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA08
, 4G169CA12
, 4G169CA13
, 4G169DA06
, 4G169EA04Y
, 4G169EA19
, 4G169EC28
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FA03
, 4G169FB09
, 4G169FB14
, 4G169FB15
, 4G169FB30
, 4G169FB57
, 4G169FC08
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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