特許
J-GLOBAL ID：200903048161002389
レジスト評価装置及びこれを用いたレジスト塗布装置及びレジスト塗布方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹村 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-046196
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217881
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 半導体装置を形成する工程において、基板に形成される配線パタ-ン等の欠陥を少なくするように、レジスト塗布装置に評価装置を備える。【構成】 回転しているシリコンなどのウェ-ハ13にレジストタンクからのレジスト液を塗布する前に、あらかじめ、透明なモニタ基板9にそのレジスト液を塗布し、この基板上のレジスト膜にレ-ザなどの光源10からの光を照射する。その照射した光は、レジスト膜を透過散乱して、モニタ基板9の裏面から受光装置11で検知してレジスト膜のダスト量を知り、基準以下の量なら、このレジスト液は、良品としてウェ-ハ13に塗布し、レジストパタ-ンを形成する。
請求項（抜粋）：
レジスト液を供給する手段と、前記レジスト液が塗布される透明なモニタ基板と、前記モニタ基板上の前記レジスト液から形成されるレジスト膜に照射し、かつ前記モニタ基板を透過する光を発生する光源と、前記モニタ基板を透過する光を検知する光検知器とを備えていることを特徴とするレジスト評価装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 501
, H01L 21/66
